Autor: Dan Diaconu, trenduri.blogspot.com
Să începi lupta cu Iranul pentru a te trezi obligat să o abandonezi pentru că ai rămas fără muniție de apărare sau atac, este o rușine extrem de mare, pe care numai un tembel precum Trump putea să o facă. Și nu este singura! De exemplu, previzibila revenire a democraților la putere, cu toate tembelismele lor pe care le-am văzut și care ne-au afectat absolut radical, se va dovedi a fi tot opera sa. Însă nimic nu egalează prostia absolută a lui Trump pe un front pe care nu doar America a fost înfrântă, ci întreg Occidentul.
Nu e vorba de război. Aici, indiferent de show-urile fâsâite ale lui Trump, deja sunt pierdute toate alternativele de menținere a unipolarității. E vorba de un domeniu mai subtil, care influențează hotărâtor viața de zi cu zi: cel al microelectronicii.
Inițial, Trump a crezut că va putea opri China din cursa AI prin interzicerea accesului la chip-urile avansate ale Nvidia. Dobitocul de Biden a mers chiar mai departe. Presupoziția s-a dovedit a fi fost falsă. China a acoperit rapid gap-ul tehnologic și, până la finalul anului curent, este posibil să depășească SUA în domeniul modelelor de frontieră. La capitolul multi-modalitate, recent lansatul model Qwen a depășit tot ceea ce poate da mai bun SUA. Dar nu aici e discuția, ci în zona fundamentală.
Pentru a șunta și mai mult China, Trump – încă de la primul său mandat – a interzis exporturile de litografe avansate. Încă de atunci s-a considerat că interzicerea accesului la litografe va distruge întreaga industrie microelectronică a Chinei. Venirea la putere a lui Biden a continuat cu un control și mai strict al exporturilor și cu interdicții mai mari. Din nou, presupoziția s-a dovedit a fi falsă.
China tocmai ce a anunțat că produce în serie propriile litografe DUV(Direct UltraViolet) de 28 nm. Tehnologia ar părea destul de înapoiată, având în vedere că se merge pe topologii spre 1nm. Doar că, utilizând astfel de litografe, printr-un proces denumit multi-patterning(adică prin trecerea de mai multe ori a aceluiași chip prin mașina DUV) se poate ajunge la topologii de 5 nm, ceea ce e fabulos.
Există în continuare câteva provocări, întrucât actualele mașini DUV sunt cu două generații în urma celor produse de ASML, dar esențial este că nimeni nu credea că China va ajunge aici. Lumea e perplexă, iar ASML își vede piața mâncată. La fel ca în cazul Nvidia, și dacă acum vor fi ridicate restricțiile pentru litografele ASML DUV(prin imersie), nu le va mai cumpăra nimeni în China. Pentru că tehnologia proprie are prioritate.
Da, e vorba de o capacitate momentană de doar 4 litografe pe an, dar asta înseamnă un teribil progres al Chinei care, iată, a depășit o limitare considerată de nedepășit.
Șocul fundamental însă vine din zona cea mai de vârf, anume cea a litografelor EUV(Extreme UltraViolet). EUV este cel mai complex sistem de inginerie din istoria umanității. Folosește lasere de mare putere care lovesc picături de staniu de zeci de mii de ori pe secundă. E o teribilă provocare tehnologică considerată imposibil de a fi stăpânită de o singură țară.
Ca să înțelegeți, în toată ecuația producției de litografe EUV, ASML-ul olandez este doar integratorul, vârful aisbergului. Fiecare litograf ASML depinde de un lanț global de aprovizionare format din cinci țări principale(Germania, SUA, Olanda, Japonia Taiwan) și peste 20 de state secundare! În esență, nicio țară din întreg Occidentul Colectiv nu e capabilă să producă prin propriile forțe un litograf.
Ei bine, în acest context, China a șocat lumea anunțând finalizarea primului litograf EUV 100% propriu. Chiar dacă sistemul încă se află în teste, fiind la ani distanță de producția comercială și de realizarea cadențelor sistemelor ASML de azi, simplul fapt că O SINGURĂ ȚARĂ, blindată de sancțiuni, a reușit această performanță este o știre absolut de neimaginat la vremea primelor sancțiuni impuse de Trump.
Citiți articolul integral pe trenduri.blogspot.com!
sursă: trenduri.blogspot.com
